banyè

Bon kalite tep pwoteksyon - Fim pwoteksyon EMI ak bon pwoteksyon - Lucky Innovative

Bon kalite tep pwoteksyon - Fim pwoteksyon EMI ak bon pwoteksyon - Lucky Innovative

Deskripsyon kout:


Detay pwodwi

Etikèt pwodwi yo

Videyo ki gen rapò

Fidbak (2)

Nou pral dedye tèt nou pou bay achtè estime nou yo ansanm ak pwodwi ak sèvis ki pi antouzyastikman reflechi pouFim Capteur ki Endike Presyon Taktil,Fim enteryè,Fim sèk fotosansib pòtab pou PCBAparèy pwosesis egzak, Ekipman avanse pou bòdi enjeksyon, Liy asanblaj ekipman, laboratwa ak devlopman lojisyèl se karakteristik distenktif nou yo.
Bon kalite kasèt pwoteksyon - Fim pwoteksyon EMI ak bon pwoteksyon - Detay inovatè chans:

Deskripsyon pwodwi

Fim pwoteksyon EMI a sitou itilize nan FPC ki konpoze de modil pou telefòn mobil, PC, aparèy medikal, kamera dijital, enstriman otomobil, elatriye.

Disponibilite pwodwi

LKES-800
LKES-1000
LEKS-6000

Karakteristik pwodwi yo

(1) Bon karakteristik pwosesis
(2) Bon konduktivite elektrik
(3) Bon pwopriyete pwoteksyon
(4) Bon rezistans chalè
(5) Zanmitay anviwònman an (san alojèn, satisfè egzijans Direktiv RoHS ak REACH, elatriye)

Estrikti pwodwi

Fim sèk

Karakteristik pwodwi yo

LKES -800

Atik Done Tès Estanda tès oswa metòd tès
Epesè (Anvan Laminasyon, μm) 16±10% Estanda Antrepriz
Epesè (Apre Laminasyon, μm) 13±10% Estanda Antrepriz
Rezistans tè (plake ak lò, φ 1.0mm, 1.0cm, Ω) JIS C5016 1994-7.1
Fòs kale nan fim ranfòse (N/25mm) Estanda Antrepriz
Reflow soudaj san plon (MAX 265 ℃) Pa gen stratifikasyon; Pa gen kim JIS C6471 1995-9.3
Soudi (288℃, 10s, 3 fwa) Pa gen stratifikasyon; Pa gen kim JIS C6471 1995-9.3
Pwopriyete Pwoteksyon (dB) >50 GB/T 30142-2013
Rezistans Sifas (mΩ/□) Metòd Kat Tèminal
Rezistan flanm dife VTM-0 UL94
Enpresyon Karaktè PASE JIS K5600
Briyans (60°, Gs) GB9754-88
Rezistans chimik (asid, alkali ak OSP) PASE JIS C6471 1995-9.2
Adèzyon ak ranfòsman (N/cm) >4 IPC-TM-650 2.4.9

LKES-1000

Atik Done Tès Estanda tès oswa metòd tès
Epesè (Apre Laminasyon, μm) 14-18 Estanda Antrepriz
Pwopriyete Pwoteksyon (dB) ≥50 GB/T 30142-2013
Izolasyon Sifas ≥200 Estanda Antrepriz
Solidité adezif (tès santèn selil) Pa gen selil ki tonbe JIS C 6471 1995-8.1
Ti sèvyèt ki reziste alkòl 50 fwa pa gen domaj Estanda Antrepriz
Rezistans grate 5 fwa pa gen flit metal Estanda Antrepriz
Rezistans tè, (plakaj lò, φ 1.0mm, 1.0cm, Ω) ≤1.0 JIS C5016 1994-7.1
Reflow soudaj san plon (MAX 265 ℃) Pa gen stratifikasyon; Pa gen kim JIS C6471 1995-9.3
Soudi (288℃, 10s, 3 fwa) Pa gen stratifikasyon; Pa gen kim JIS C6471 1995-9.3
Enpresyon Karaktè PASE JIS K5600

LKES-6000

Atik Done Tès Estanda tès oswa metòd tès
Epesè (Apre Laminasyon, μm) 13±10% Estanda Antrepriz
Pwopriyete Pwoteksyon (dB) ≥50 GB/T 30142-2013
Rezistans tè, (plake lò, φ 1.0mm, 1.0cm, Ω) ≤0.5 JIS C5016 1994-7.1
Rezistans tè, (plake lò, φ 1.0mm, 3.0cm, Ω) 0.20 JIS C5016 1994-7.1
Fòs lage (N/cm) Estanda Antrepriz
Izolasyon sifas (mΩ) ≥200 Estanda Antrepriz
Solidité adezif (tès santèn selil) Pa gen selil ki tonbe JIS C 6471 1995-8.1
Reflow soudaj san plon (MAX 265 ℃) Pa gen stratifikasyon; Pa gen kim JIS C6471 1995-9.3
Soudi (288℃, 10s, 3 fwa) Pa gen stratifikasyon; Pa gen kim JIS C6471 1995-9.3
Rezistan flanm dife VTM-0 UL94
Enpresyon Karaktè PASE JIS K5600

Kondisyon Pwosesis Rekòmande

Metòd laminasyon Kondisyon laminasyon Kondisyon solidifikasyon

Tanperati ()

Presyon (kg)

Tan (s)

Tanperati ()

Tan (minit)

Laminasyon rapid LKES800/6000:180±10LKES1000:175±5 100-120 80-120 160±10 30-60

Remak: Kliyan an ka ajiste teknoloji a selon kondisyon reyèl la lè y ap trete l.
(1) Retire kouch pwoteksyon an anvan, epi kole l sou FPC a. Ou ka itilize yon tab chofaj 80℃ pou kole l davans.
(2) Plastifye dapre pwosesis ki anwo a, retire, epi retire fim sipò a apre li fin refwadi.
(3) Pwosesis solidifikasyon.

Anbalaj

(1) Espesifikasyon estanda pwodwi a: 250mm × 100m.
(2) Apre yo fin retire elektrisite estatik la, yo pake pwodwi yo nan papye aliminyòm epi yo mete yo nan yon seche rad ladan l.
(3) Deyò a chaje nan katon papye epi byen fikse pou asire sekirite pwodwi yo pandan transpò ak manyen, epi evite domaj.

Depo ak Atansyon

(1) Kondisyon Depo Rekòmande
Tanperati: (0-10)℃; Imidite: anba 70% RH
(2) Atansyon
(2.1) Tanpri pa ouvri anbalaj ekstèn lan epi kite fim pwoteksyon an balanse nan tanperati chanm pandan 6 èdtan anvan ou itilize li pou diminye efè jèl ak lawouze sou fim pwoteksyon an.
(2.2) Li sijere pou itilize li pi vit posib apre yo fin retire li nan depo frèt la, si kalite a chanje anba tanperati nòmal pou yon bon bout tan.
(2.3) Pwodui sa a pa reziste ak ajan sele faz dlo ak flux, si ou gen teknoloji pwosesis ki anwo a, tanpri teste epi konfime anvan.
(2.4) Sijere laminasyon rapid, laminasyon vakyòm bezwen teste epi konfime.
(2.5) Peryòd garanti kalite a anba kondisyon ki anwo yo se 6 mwa.


Foto detay pwodwi:

Bon kalite tep pwoteksyon - Fim pwoteksyon EMI ak bon pwoteksyon - Foto detaye Lucky Innovative

Bon kalite tep pwoteksyon - Fim pwoteksyon EMI ak bon pwoteksyon - Foto detaye Lucky Innovative

Bon kalite tep pwoteksyon - Fim pwoteksyon EMI ak bon pwoteksyon - Foto detaye Lucky Innovative

Bon kalite tep pwoteksyon - Fim pwoteksyon EMI ak bon pwoteksyon - Foto detaye Lucky Innovative

Bon kalite tep pwoteksyon - Fim pwoteksyon EMI ak bon pwoteksyon - Foto detaye Lucky Innovative

Bon kalite tep pwoteksyon - Fim pwoteksyon EMI ak bon pwoteksyon - Foto detaye Lucky Innovative


Gid pwodwi ki gen rapò:

Nou pouswiv prensip jesyon "Kalite siperyè, Sèvis sipwèm, Repitasyon an premye", epi n ap sensèman kreye epi pataje siksè ak tout kliyan pou Bon Kalite Tep Pwoteksyon - Fim Pwoteksyon EMI ak Bon Pwoteksyon - Lucky Innovative, Pwodwi a pral apwovizyone nan tout mond lan, tankou: Florid, Victoria, Nairobi, Gran varyete ak livrezon rapid pou satisfè bezwen ou yo! Filozofi nou an: Bon kalite, ekselan sèvis, kontinye amelyore. Nou ap tann pou pi plis ak plis zanmi lòt bò dlo rantre nan fanmi nou pou plis devlopman nan lavni!
  • Manadjè pwodwi a se yon moun ki trè agreyab e pwofesyonèl, nou te gen yon konvèsasyon agreyab, epi finalman nou te rive nan yon akò konsansis.
    5 ZetwalPa Johnny soti Zimbabwe - 2017.09.26 12:12
    Konpayi an gen resous rich, machin avanse, travayè ki gen eksperyans ak sèvis ekselan, espere ou kontinye amelyore ak pèfeksyone pwodwi ak sèvis ou yo, swete ou pi bon!
    5 ZetwalPa Esther ki soti Izrayèl - 2018.06.12 16:22
    Ekri mesaj ou a isit la epi voye l ban nou